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低温等离子设备射频感应耦最早在什么地方应用呢?

文章出处:温州科菱环保科技有限公司 人气:734发表时间:2021/6/8 17:39:44
  低温等离子设备射频感应耦最早在什么地方应用呢?射频感应耦合(ICP)等离子体源的早期研究始于20世纪初Thomson和Townsend,以及Wood等开创性的工作,但当时的工作气压还在几百帕,且等离子体产生尺度范围还很窄而得不到广泛的应用.直到最近的10年,低压、高密度大直径的ICP等离子体源才在生产中得到使用[9,10等离子表面处理机].


  是目前流行的两种不同RF射频感应耦合等离子体装置.一种是圆筒型,即射频耦合天线螺旋缠绕在柱形放电管(通常是绝缘石英管)周围,一种是平面型,即射频耦合天线同心螺旋放置在放电管的顶部,射频能量通过天线耦合到放电管中,产生高密度均匀的ICP等离子体[7].ICP等离子体产生原理是通过匹配网络将13.56MHz射频功率加到螺旋线圈天线上产生射频磁通,射频磁通在真空圆筒形容器内部轴向感生射频电场,真空容器中的电子被感生电场加速,被电场加速的电子与气体分子剧烈频繁碰撞,使气体分子被激发、电离及离解而形成ICP等离子体.


  ICP等离子体除了具有ECR等离子体的无内电极放电无污染,等离子体密度高(~1010cm-3)等特点外,成本低的优势使得其应用范围更广泛.ICP等离子体增强气相沉积(ICPECVD)是化学气相沉积技术的一


  种,其基本原理是将射频放电的物理过程和化学气相沉积相结合,利用ICP等离子体裂解反应前驱物.如制备高硬度、耐高温耐腐蚀的Si3N4薄膜[11].ICP等离子体的另一个主要工业应用就是等离子体干法刻蚀,特别是反应离子刻蚀(RIE).ICP等离子体干法刻蚀能够克服湿法刻蚀严重的钻蚀效应及各向同性的缺点,具有选择性、各向异性等特点,广泛应用于高集成度的微电子学集成电路的设计当中.如采用Cl2等离子体对p-GaN薄膜进行干法刻蚀[12].另外,ICP等离子体还广泛应用于辅助磁控溅射、电子束蒸发工艺中,作为离子源来增强反应条件以及降低反应温度.








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